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                                                  平成8年4月25日

 国内における64MDRAMの生産能力拡充

 −茨城県ひたちなか市に64M DRAM製造拠点を新設−

 日立製作所は、平成10年頃より急速な立ち上がりが予想される64M DRAM需要に対応するため、ひたちなか市の半導体工場(那珂製造本部) に総額約1,200億円の投資を行い、0.3μmCMOSプロセスの64M DRAM工場を新たに建設することを決定しました。 これにより、本年4月より着工、平成10年前半には生産を開始し、平成 11年末にフル生産を行う計画です。  DRAMは、パーソナルコンピュータやワークステーション等の機器を中 心に使用されていますが、これらの機器は今後も持続的な高成長が見込まれ ています。また、今後のパーソナルコンピュータの一層の高性能化、高機能 な次世代OSの普及及びマルチメディア市場の立ち上がり等が見込まれ、さ らに大容量なDRAMへの需要が高まると予測されます。  現在、DRAM需要の主力は4MDRAMから16MDRAMへ急速にシ フトしています。このように世代交代が絶えず進むメモリビジネスにおいて は、常に次の世代を視野に置いた早めの生産体制の準備が求められています。   当社はこのような状況に対応し、64MDRAM対応として、すでに国内 ではひたちなか市半導体工場のN-2棟1階に、また海外では、テキサス・ インスツルメンツ社と合弁で米国テキサス州に16M/64MDRAMの製造 会社(TwinStar Semiconductor Inc.)を設立し、現在それぞれラインを構 築中です。 さらに、アジアにおいては、シンガポールで新日本製鐵株式会社及びシン ガポール政府との合弁会社、及びマレーシアでLG半導体株式会社との合弁 会社の設立に向けてフィジビリティースタディーを行っています。  今回の計画では、平成8年から平成10年にかけて総額約1,200億円 の設備投資を行い、平成10年前半より生産開始、平成11年末で8イン チウェハー約3万枚/月の能力とする計画です。  これにより、先に着工しているひたちなか市半導体工場のN-2棟1階の ラインと合わせて、ひたちなか地区を先端メモリの拠点にしていきます。 <新ラインの概要>   ・生 産 品 目 :64M DRAM   ・プ ロ セ ス :0.3ミクロン対応CMOSプロセス   ・総 投 資 額 :約1,200億円   ・クリーンルーム面積 :9,000平方メートル   ・日     程 :平成8年4月   着工開始 平成10年前半  生産開始   平成11年末   約3万枚/月(フル生産) ・人     員 :約600人(フル生産時) −以 上−

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