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日立ナノインプリントソリューション

Hitachi

EB描画技術

セルプロジェクション方式は、繰り返しの多いパターンを転写マスクとして用意し、描画時にそのパターンを転写する方式です。ポイントビーム方式、可変矩形方式に比べ、セルプロジェクション方式では、ショット数を削減できることによりコスト低減、スループット向上が可能となります。

図:セルプロジェクション方式の概要