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日立ナノインプリントソリューション

Hitachi

 ■ ナノインプリントプロセスの研究開発をすすめています。

大面積への一括形成

 300mm径のシリコンウエハ上に塗布したポリスチレン樹脂に、微細構造を一括転写。

写真:大面積ウエハ上への一括形成

高アスペクト比構造の形成

図と写真:高アスペクト比構造の形成

 ナノスタンパを樹脂薄膜から剥離する際に樹脂を引き伸ばすことで、ナノスタンパの凹部の深さよりも高い柱状構造体を形成できることを見出しました。

両面へのナノインプリント技術

被転写材の片面だけではなく、両面に対してナノインプリントし凹凸パターンを形成。

写真:両面ナノインプリントの顕微鏡写真

連続転写加工

 国プロ(独立行政法人 新エネルギー・産業技術綜合開発機構)でシートインプリントの装置、技術を開発中。

「大面積・高スループットナノインプリント装置・プロセス技術及び新デバイス応用に関する研究開発」

写真:非連続的に形成したシート状のテストサンプル
非連続的に形成したシート状のテストサンプル

ニュースリリース

 2006年11月10日付けで「ナノインプリントの生産性を約100倍向上させる技術を開発」のニュースリリースを発表しました。詳細は以下からご覧になれます。