ナノスタンパ

　ナノインプリント用のシリコン、石英のナノスタンパを販売しています。 お客様のニーズに合わせたラインアンドスペースパターン、ドットパターンの対応が可能です。

特長

• 多段構造の加工
• 大面積加工
• 深溝構造の加工
• Siウエハや石英基板に加工
• フォトリソグラフィ、電子線リソグラフィによる加工
• セルプロジェクション方式による電子線リソグラフィ加工のスループット向上

シリコン加工例

多段構造

8段の多段構造

上面写真　　　　　　　　　　　　　俯瞰写真　　　　　　　　　　　　　　　　　

大面積加工

Hole径50nm、ピッチ100nm、hole深さ150nm（Siウェハ）

全体像(8インチSiウェハ)　と　CDSEM写真(x200k)

深溝構造

Step段差75μm（Siウェハ）

上面写真　と　俯瞰写真

Ｌｉｎｅ／Ｓｐａｃｅ　ＴＥＧ例（断面）

Ｈｏｌｅ加工例（０．５μｍ径部）

Ｈｏｌｅ加工例（０．５μｍ径部）

ナノスタンパ治具

各種治具も受け賜ります。

石英加工例

• ページの先頭へ