日立評論　２００２年３月号

サブ100nm時代の電子線測長装置

―S-9260形―

New CD-SEM System for sub-100nm Process Generation

　　　　　　　　　　　　　那須　　修　株式会社日立ハイテクノロジーズ
　　　　　　　　　　　　　笹田　勝弘　株式会社日立ハイテクノロジーズ
　　　　　　　　　　　　　池田　光二　日立製作所　日立研究所　情報制御第一研究部
　　　　　　　　　　　　　江角　　真　株式会社日立ハイテクノロジーズ

注：略語説明: 　MAM（Move, Acquire, Measure）
　SMIF（Standard Mechanical Interface）
　SEMI（Semiconductor Equipment and Materials Institute）

新開発の電子線測長装置「S-9260形」の外観と主な仕様

　測長SEM（走査電子顕微鏡）S-9000シリーズの最新機種「S-9260形」は，0.1μmデザインルールでのプロセスの開発と半導体の量産ニーズに適合する。

　半導体製造検査装置がサブ100nm時代へ突入すると同時に，観察能力の向上だけでなく，測長再現性のいっそうの向上が求められるようになった。また，微細化に伴って登場したArFレジストやLow-K絶縁層など，新しいプロセスに対応する機能へのニーズが高まってきた。

　日立グループが製品化した測長SEM「S-9260形」では，（1）S-9000シリーズに共通する電子光学系の優れた観察能力，（2）測長再現性，スループットなどの基本性能の向上，（3）プロセス変動モニタ機能の充実，（4）装置性能の保守・管理を支援する機能，（5）傾斜像の観察機能や表面帯電試料の測定機能，（6）ArFレジストの測長機能などにより，次世代の半導体製造工程に適応した測長環境を提供する。