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Hitachi

日立総合特許情報システム

分析情報を含む多様な情報の蓄積・共有でスピーディーかつ的確な意思決定を支援。

「Shareresearch」の高精度な特許情報を組み合わせ、複雑な集計を支援。
利用頻度の高い分析・集計をテンプレート化することで、同一の業務に繰り返し適用できます。
また、調査・分析結果を共有することにより、スピーディーで的確な企業戦略策定を支援します。

プロジェクト共有

事業所や部署、部門などをまたいだプロジェクトごとに、検索式や検索履歴、SDI、経過監視といった情報を共有可能。登録するメンバーごとにアクセス権を設定することができ、プロジェクトに関する文書などの関連データも管理することができます。

[イメージ]プロジェクト共有

区分評価別一覧

共有された公報にプロジェクト内で区分評価を付与することができます。同一プロジェクト上にある評価情報をマトリクスで管理し、必要な情報だけを確認することもできます。

統計

公報の発行数や出願数といった統計を、検索で指定した条件の集合体から年単位などで出力可能。わかりやすいグラフ表示で確認できます。また、複数企業を一つのグループ企業として集約することも可能。独自情報による抽出も行えます。

分析オプション

競合企業の技術開発動向に関する分析業務をサポート。多様な情報を組み合わせた高度な集計で、新たな観点での分析結果を提供します。

統計分析

有効な特許の件数やグローバル展開状況など、複雑な集計や描画が必要なグラフ、マップを簡単に作成できます。

有効な特許の各権利状態の保有状況グラフ

[イメージ]有効な特許の各権利状態の保有状況グラフ

有効な特許の各出願人の保有状況グラフ

[イメージ]有効な特許の各出願人の保有状況グラフ

クラスタリング

自社/他社の大量の特許を独自の観点で自動区分けし、技術の強み/弱みを発見。一つ一つの特許を目視で確認する作業時間を大幅に削減できます。

独自観点で入力

[画面]独自観点で入力

独自観点で自動区分け

[画面]独自観点で自動区分け

被引用分析

出願人や特許の年代別の被引用数により、自社技術の先行度合いを把握し、ツリー上に当該公報の被引用数を表示可能。注目すべき技術を一目で確認できます。

[画面]被引用ツリー画面
被引用ツリー画面

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