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Hitachi

日立総合特許情報システム

豊富な実績に裏付けられた高度な検索関連機能を提供。

特許調査業務の現場を知り尽くした長年にわたる経験をもとに、業務効率を大幅に改善するさまざまな検索関連機能を提供。調査履歴を活用した検索、国内外共通の検索インターフェース、SDI/経過監視での定期的な他社動向調査、独自評価の付与など、豊富な機能で調査業務を効率化します。

調査履歴の有効活用

検索結果の傾向把握を行いながら、必要な情報を再度検索式に反映することにより
検索→表示→傾向把握→検索式のブラッシュアップ→再検索の効率的な業務サイクルを実現します。

[画面]調査履歴の有効活用

高度な書誌・全文検索

共通インターフェースでの検索により、国内、国外、意匠の調査業務を一貫して行えます。
「AND」「OR」や近傍検索など、複雑な検索式の作成も可能です。また、過去の検索履歴や社内分類、メモといった独自情報も合わせて検索できます。

評価・分類

メモ、評価、社内分類など、運用に合わせた独自情報の付与が可能です。これらの情報を活用したデータ作成など、さまざまな場面で利用できます。

ランキング表示

出願人、発明者、IPC、FI、Fタームなどをキーとし、公報数のランキングをビジュアルでわかりやすく表示することができます。

*
IPC:International Patent Classification

SDI

あらかじめ登録した検索条件で、自動的に新着公報の検索を行います。検索結果は定義した送信先に自動配信されます。また、発明部門への二次配信も可能です。

経過監視

重要案件の定期的な監視作業を自動化し、国内、国外案件の継続的な監視作業の調査工数を低減します。

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