日本電気株式会社           
                                               株式会社日立製作所           


　日本電気株式会社（本社：東京都港区、社長：西垣浩司、以下ＮＥＣ）と
株式会社日立製作所（本社：東京都千代田区、取締役社長：庄山悦彦、以下
日立）の両社はこのたび、ＤＲＡＭに関する合弁会社「ＮＥＣ日立メモリ株
式会社」の設立を決定し、本日、合弁契約書に調印いたしました。
　新会社の設立は本年１２月末、本格的な事業活動の開始時期は平成１２年
４月を予定しております。

　「ＮＥＣ日立メモリ株式会社」の資本金は、設立時に５億円、平成１２年
３月末には２０億円への増資を計画しており、いずれも両社折半の出資とな
ります。本社は東京都区内に、開発・試作拠点は神奈川県相模原市のＮＥＣ
相模原事業場内に設置いたします。
　新会社の社長には、徳山賢二（現ＮＥＣメモリ事業本部長）が、副社長に
は、安井徳政（現日立半導体グループメモリ統括本部長）が就任し、両者が
同社の代表取締役となります。
　新会社の従業員数は、平成１２年４月時点で約２００名を計画しておりま
すが、平成１３年４月には６００〜７００名に増員する予定であります。　　
なお、同社の従業員は、ＮＥＣと日立から当面出向いたします。

　新会社は、まず、０．１３μｍプロセスの２５６ＭビットＤＲＡＭおよび　　　
５１２ＭビットＤＲＡＭなどの次世代ＤＲＡＭの共同開発に取り組み、平成
１３年の製品化を目指します。また、平成１２年末をめどにＮＥＣおよび日
立のＤＲＡＭ販売機能を新会社に統合し、共同開発品および両社の既存
ＤＲＡＭ製品を新たな統一ブランドで、新会社を経由して販売してまいりま
す。
　生産に関しては、新会社は、平成１３年からＮＥＣのＤＲＡＭ生産拠点で
あるＮＥＣ広島（広島日本電気株式会社、本社：広島県東広島市、社長：皆
川勝治）と日立のＤＲＡＭ生産拠点であるＨＮＳ(Hitachi Nippon Steel 
Semiconductor Singapore Pte. Ltd.、本社：シンガポール、社長：片山
勝彦)を主力拠点とし、生産を委託する形で、生産機能の取り込みを行うほ
か、ＮＥＣ・日立両社の他の生産拠点も活用してまいります。これにより、
新会社は、開発から生産・販売まで一貫した機能を持つ会社となります。

　ＮＥＣと日立は、本年６月にＤＲＡＭビジネスに関する包括的な提携に合
意いたしました。今回の新会社の設立は、その合意に基づいたものであり、
世界のＤＲＡＭ市場に確固たる基盤を築こうとする、両社の強い決意の表れ
であります。
　新会社の設立により両社は、（１）ＮＥＣと日立のトップレベルの技術を
融合し、技術開発の飛躍的なスピードアップを図り、（２）両社のシナジー
効果により、縮小版の早期投入や回路面での工夫によるチップ面積の縮小を
通じてコスト競争力のある製品を実現するとともに、（３）統一ブランドの
導入により、市場でのプレゼンスを高め、ＤＲＡＭ市場におけるリーディン
グポジションを確保してまいります。

合弁会社の概要

会  社  名：ＮＥＣ日立メモリ株式会社
           （英文名称：NEC-HITACHI MEMORY, INC.）
本社所在地：東京都区内
資  本  金：　５億円（ＮＥＣ ５０％，日立５０％：平成１１年１２月末）
            ２０億円（ＮＥＣ ５０％，日立５０％：平成１２年３月末）
代  表  者：社長　：徳山賢二（現ＮＥＣメモリ事業本部長）
            副社長：安井徳政（現日立半導体グループメモリ統括本部長）
従  業  員：約２００名（平成１２年４月）
　　　　    ６００〜７００名（平成１３年４月）

                                                              以　上