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2001年9月28日
エルピーダメモリ株式会社
日本電気株式会社
株式会社日立製作所
半導体新工場の稼動延期について
  エルピーダメモリ株式会社(本社:東京都中央区、社長:徳山賢二、以下エルピーダ)は、NEC広島敷地内(広島県東広島市)に、300mmウェハ仕様のDRAM専用工場の建設を進めておりますが、現下の未曾有のDRAM市況悪化に加え、米同時多発テロ事件により市況の先行きが不透明なことから、設備導入時期を平成13年12月から平成14年9月に延期することを本日決定いたしました。
  今回の稼動延期に対し、日本電気株式会社(本社:東京都港区、代表取締役社長:西垣浩司、以下NEC)と株式会社日立製作所(本社:東京都千代田区、取締役社長:庄山悦彦、以下日立)の両社はNEC広島とHNS(Hitachi Nippon Steel Semiconductor Singapore Pte. Ltd.)からの製品供給を継続いたします。

  エルピーダは、NECと日立の共同出資によりDRAM事業を行う合弁会社として平成11年12月に設立されました。NECと日立両社の技術者がエルピーダの開発・デバイスセンター(神奈川県相模原市)に結集し、約450名体制で0.13μmプロセスの最先端DRAMの設計・開発業務を推進した結果、世界に先駆け0.13μmプロセスを採用した256MビットDRAMの開発に成功いたしました。この製品は、従来の0.18μmプロセス製品に比べ面積比50%の世界最小チップを実現しております。
  また、平成13年2月から、NEC及び日立のDRAM販売機能をエルピーダに統合し、両社の既存のDRAM製品も含めた販売業務を開始しております
  このようにエルピーダにおけるNECと日立両社の事業統合は順調に推移しておりますが、未曽有のDRAM不況に対応するため、今回の稼動延期を決定したものであります。

  エルピーダは、開発・生産から販売に至るまでの全ての機能を持つ日本における唯一のDRAM専業会社であり、今後とも顧客との信頼感を一層強化し、世界のDRAM会社に伍した市場のリーディングポジション獲得を目指していきます。

  なお、エルピーダおよび新工場の概要は別紙をご参照下さい。

以 上




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