この技術をご利用頂くことで、お客さまの半導体の開発や不良解析に要する時間の大幅短縮に貢献いたします。
複数の装置およびスタッフで対応することでスピーディな対応が可能です。
CADレイアウトデータ(GDSU) / レイアウト図 / 顕微鏡写真 / 座標値など、多様な加工位置の 指定情報に対応いたします。
ウェハ 〜12インチ(300mmØ) / ペレット / へき開チップ / パッケージ / 基板実装品などに対応いたします。
• 平坦化プロセス品 / 研磨サンプル / Cu配線Low-K品に対応いたします。(多数実績あり)
• 膜厚および膜質が不明なサンプルに対応いたします。
• サンプル表面のポリイミド膜の局所除去 / 全面除去に対応いたします。
一点の加工から数十点 /数十チップの加工まで、幅広いニーズに対応いたします。
レーザ干渉計&帯電防止機能搭載の装置を保有しています。
• 耐電流:20mA〜100mA (通常は〜40mAですが、ご要望に応じて対応可能です)
• 低抵抗:通常1kΩ/mm(さらに低抵抗も可能 です)
• 長距離配線:独自技術の開発により、短時間で長距離の配線接続が可能です。
全ての加工作業をクリーンルームで実施しています。
お客さまのニーズに合わせたFIB配線加工サービスに関して、是非一度ご相談ください。
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